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| 微分干涉金相顯微鏡(太陽能顯微鏡）：DMM-1200C
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一、微分干涉金相顯微鏡儀器的主要用途和特點
蔡康DMM-1200微分干涉金相顯微鏡（DIC)采用優(yōu)質(zhì)的無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，微分干涉相襯顯微鏡適用于對多種物體的顯微觀察。配置落射DIC觀察系統(tǒng)與透射照明系統(tǒng)、無限遠(yuǎn)長距平場消色差物鏡、大視野目鏡和偏光觀察裝置，具有圖像立體感且清晰、操作方便等特點，是生物學(xué)、金屬學(xué)、礦物學(xué)、精密工程學(xué)、電子學(xué)等研究的理想儀器，可選用微分干涉（DIC）觀測、獲得高清晰的圖像，使圖像襯度更好,半導(dǎo)體晶圓檢測、太陽能硅片制造業(yè)、電子信息產(chǎn)業(yè)、治金工業(yè)開發(fā)的，作為工業(yè)金相顯微鏡使用;可進行明場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構(gòu)、高等院校對太陽能電池硅片、半導(dǎo)體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
DMM-1200C微分干涉金相顯微鏡是將光學(xué)顯微鏡技術(shù)、優(yōu)良的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、計算機成像技術(shù)緊密地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成功的理想產(chǎn)品。既可人工觀察金相圖像,又可以在計算機上很方便地適時觀察金相圖像，并可隨時拍攝記錄金相圖片,從而對金相圖譜進行分析,評級等,還可以保存或打印出高像素金相照片。
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| 二、大平臺微分干涉金相顯微鏡儀器的主要技術(shù)指標(biāo) |
| 金相顯微鏡組件及規(guī)格 |
| 光學(xué)系統(tǒng) |
無窮遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng) |
| 主機 |
DMM-1200倒置金相顯微鏡主機 |
| 目鏡 |
大視野 |
WF10X(Φ22mm) |
| WF15X(Φ16mm) |
| WF20X(Φ12mm) |
| 平場分劃 |
10X/Φ20mm(0.10mm/格值) |
| 物鏡 |
無限遠(yuǎn)長工作距離平場消色差
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放大倍數(shù)/數(shù)值孔徑 |
有效工作距離 |
| PL5X/0.12 |
26.1 |
| PLL10X/0.25 |
20.2 |
| PLL20X/0.4 |
8.8 |
| PLL40X/0.6 |
3.98 |
| 目鏡筒 |
三目鏡 |
鉸鏈?zhǔn)剑瑑A斜30度，分光比：觀察80% 攝影20%；或觀察100% 攝影100% |
| 濾片組 |
全系列濾色片 |
| 物鏡轉(zhuǎn)換器 |
五孔物鏡轉(zhuǎn)換器 |
| 調(diào)焦機構(gòu) |
同軸粗微動調(diào)焦機構(gòu),帶鎖緊和限位裝置, 調(diào)焦范圍30mm 微動格值0.8μm |
| 載物臺 |
臺面尺寸：280mm*270mm; |
| 移動范圍：橫向（X）204mm，縱向（Y）204mm |
| 照明系統(tǒng) |
落射照明12V/50W，鹵素?zé)簦行摹⒘炼冗B續(xù)可調(diào) |
| 微分干涉 |
可使用于5X、10X、20X |
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| 三、大平臺微分干涉金相顯微鏡系統(tǒng)的組成 |
1、金相顯微鏡DMM-1200
2、CCD適配鏡
3、彩色數(shù)字?jǐn)z像機(CCD)
4、計算機（選購） |
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| 四、大平臺微分干涉金相顯微鏡選購部分 |
| 1.金相分析軟件 |
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| 五 、大平臺微分干涉金相顯微鏡同類儀器的比較 |
1、DMM-1200C電腦微分干涉顯微鏡
2、DMM-1200D數(shù)碼微分干涉顯微鏡 |
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| 六、大平臺微分干涉金相顯微鏡相關(guān)設(shè)備 |
金相設(shè)備 金相拋光機 金相切割機 金相砂紙 金相切割片 金相鑲嵌機 金相預(yù)磨機 顯微硬度計 端淬試驗機 |
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